CVD炉(碳化硅膜) 气相沉积炉
CVD炉(碳化硅膜) 气相沉积炉
产品价格:¥面议(人民币)
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  • 发货地:北京
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    商品详情
      产品描述:
      CNT公司生产的CVD设备主要由全真空专用不锈钢腔体,分子泵高真空系统,电源,生长机体载体及温控系统,独立排气和生长压力调节系统,冷却循环水辅助设备等组成。整机结构紧凑、操作方便、抽真空速度快。此设备控制系统采用逻辑按钮手动控制与工控机自控控制可选。实现真空抽气和镀膜工艺一体化功能。此设备可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介电、半导体及金属膜等。
       
      ※技术指标:
       
       参 数 名 称
      单   位
      配置
      沉积类型
       
      碳化硅,氮化硅
      电   源
       
      射频电源,带正向功率和反射功率计指示,带匹配器
      加热系统
       
      平板式双反应室系统,带加温和匀气系统
      工 作 温 度
      1300~1800℃
      基片台尺寸
      (φ×H)mm
      1英寸、二英寸、三英寸、四英寸
      基片台转速
       
      转速0-20RPM
      控 温 精 度
      ±1
      极限真空
      pa
      6.67.0×10-5
      密封系统
       
      磁流体密封
      水冷、气路系统
       
      冷却水循环机、无噪声气泵
      报警及保护
       
      对缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警及相应保护措施
      真空系统 
      (选 配)
      真空系列
      单级机械泵、扩散泵机组、分子泵
      工作腔体
      不锈钢
      气氛系统
      浮子流量计、进口、国产质量流量计
      记录装置
      进口、国产无纸记录仪
      备注:西尼特可根据阁下要求提供各种非标产品的设计制造,欢迎来函、来电咨询!   
            24小时热线:400-668-6260   18610138965    Fax:010-51418223
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