我司有自主研发设计制造的真空镀膜设备，镀铜膜是在PET基膜上进行真空纳米涂层的技术，以纯度为99.999％的铜作为靶材，再通过改变真空室内的工作气压、温度和蒸镀时间等工艺条件，在其表面沉积上金属铜膜。主要工艺包括电阻率、附着力、高温抗氧化性、防盐雾性，膜层表面光亮度以及膜层附着力问题，镀膜产品有光学多层介质膜、镀铜膜、镀铝膜等各种金属膜。

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