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L4811-II-2/RZQ双工位立式真空烧结炉是为满足半导体器件和磁性材料行业的大批量、高生产率的要求而设计的一种较先进的烧结设备,主要用于管芯和管座的烧结,也可以做扩散、退火设备用。
主要技术指标:
1工作温度:
2单点温度控制精度:±
3恒温区长度:
4最高升温功率:22KW
6真空电炉加热功率:1KW
7设备总功率:28KW
8真空室尺寸:φ
9真空度:3 x 10-3Pa
10抽真空时间:<1h(注:初始开机时间),连续工作<20min
11主机尺寸:2050 x 1050 x
12电控箱尺寸:750 x 850 x 1800(mm)
13供电电源:三相380V
14主机重量:
高温真空烧结炉、粉末冶金烧结炉、真空气氛烧结炉、太阳能烧结炉、微波烧结炉、坩埚烧结炉、热压烧结炉、真空热压烧结炉、超高温烧结炉、超高温反应烧结炉、聚四氟乙稀烧结炉、立式烧结炉、卧式真空炉、烧结炉、陶瓷烧结炉、链式炉、扩散系统、真空扩散炉、高温扩散炉、烘焙排腊炉、单管氢气炉、真空烧结炉、双工烧结炉、陶瓷烧结炉、马弗炉、消磁炉、温度控制系统、绝缘子熔封炉、缝焊机、加压检漏台、压力机、时效炉
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