光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

不锈钢掩模板是以不锈钢材料为基板生产的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金属硬度高可以反复使用，适用于蒸镀线路、电极、芯片层等。受高校研发部门、科研所喜爱。

芯片掩模板用于芯片线路蒸镀使用，优质的材料再结合本公司多年生产经验，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模图像的转移，适合芯片生产厂家和高校实验室。

电极掩模板是一款精度在10微米以内的金属掩模板，该掩模板的特点是高精度、高平整度、高硬度、受热变形量小等，集众多优点于一身，受到广大院校和研究所好评。

绝缘层掩膜板属于金属掩膜板的一种，它主要用于蒸镀两线路层之间绝缘层，其特点为能紧密的贴服在蒸镀基材上，位置和开孔大小精度高，方便重复定位，使用时间长，是需要精度蒸镀线路厂家和研究院校的明智之选。

光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。