·描述

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L4811-II-2/RZQ双工位真空烧结炉是为满足半导体器件和磁性材料行业的大批量、高生产率的要求而设计的一种较先进的烧结设备，主要用于管芯和管座的烧结，也可以做扩散、退火设备用。

主要技术指标：

1工作温度：800℃～1200℃

2单点温度控制精度：±2℃/24h

3恒温区长度：400mm

4最高升温功率：22KW

5升温时间：≤50分钟（室温升至1000℃)

6真空电炉加热功率：1KW

7设备总功率：28KW

8真空室尺寸：φ350mm，高600mm

9真空度：3 x 10-3Pa

10抽真空时间：<1h（注：初始开机时间），连续工作<20min

11主机尺寸：2050 x 1050 x 2700mm（长x宽x高）

12电控箱尺寸：750 x 850 x 1800（mm）

13供电电源：三相380V

14主机重量：2000Kg高温真空烧结炉、粉末冶金烧结炉、真空气氛烧结炉、太阳能烧结炉、微波烧结炉、烧结炉玻璃烧结炉 高温烧结炉 试验烧结炉 坩埚烧结炉、热压烧结炉、真空热压烧结炉、超高温烧结炉、超高温反应烧结炉、聚四氟乙稀烧结炉、立式烧结炉、卧式真空炉、烧结炉、陶瓷烧结炉、链式炉、扩散系统、真空扩散炉、高温扩散炉、烘焙排腊炉、单管氢气炉、真空烧结炉、双工烧结炉、陶瓷烧结炉、马弗炉、消磁炉、温度控制系统、熔封炉、缝焊机、加压检漏台、压力机、时效炉、氢气高温高压炉、高温淬火炉、时效炉、钎焊炉、真空氮气烧结炉

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